TiN具有高硬度（莫氏硬度：8~9），高熔點（2950°C）和較高的耐磨性，在工業上常用作切削工具涂層，能有效減小刀具的磨損，提高切削速率，但其硬度仍難以滿足高硬度制品的要求。

立方氮化硼（c-BN）的硬度僅次于金剛石，它作為C的等電子體不僅具有金剛石的許多優良特性，而且有更高的熱穩定性和化學惰性，是一種具有良好發展前景的刀具材料。

β-C₃N₄被認為是目前最硬的材料而引起人們廣泛的關注，但其合成和表征是目前研究的難點。

氮化硅(Si₃N₄)陶瓷具有高強度、高硬度、低密度、耐腐蝕、抗熱震性好及優異的高溫力學性能，廣泛用于陶瓷基復合材料的增強相，被認為是最有發展前景的工程陶瓷之一。

六方氮化硼(h-BN)是共價鍵化合物，由于它具有較高的導熱性、良好的化學穩定性、優異的熱穩定性和較好的電絕緣性等突出的性質，被廣泛應用于耐火材料以及陶瓷基復合材料等領域。

ⅢA~ⅤA族氮化物是近年來半導體發光器件研究領域中的熱點。氮化物具有物理化學穩定性高、帶隙連續可調、寬禁帶電子漂移飽和速度高、介電常數小及導熱性能好等優點，且Eu²⁺、Ce³⁺等離子易于摻入氮化物結構中形成較短的Eu-N/Ce-N共價鍵，降低激活劑離子的5d能級，使激發和發射波長紅移。因此，氮化物熒光粉與其它傳統熒光粉相比，在穩定性、顯色性、激發波長和量子效率等方面具有明顯優勢，對于制備高效率白光LED具有重要意義。

Li₃N離子導電率高，但其分解電壓太低（0.44V），不能直接用作電極。過渡金屬氮化物具有穩定性好、分解電壓高和導電性好等優點，作為鋰離子負極材料而受到人們相當的關注。目前，被報道的金屬氮化物負極材料有氮化鋰鈷、氮化鉻、氮化鋰錳、氮化釩等。

自1985年Volpe等首次在程序升溫條件下使MoO₃與NH₃反應制備出大比表面積（220m²/g）的γ-Mo₂N以來，過渡金屬氮化物作為新型催化材料引起了人們極大的研究興趣。由于它具有類貴金屬的催化性質，在加氫、氫解、費托（F-T）合成、NH₃合成與分解、加氫脫硫（HDS）、加氫脫氮（HDN）和電催化析氫（HER）等反應中具有良好的催化活性。

MN（M=Nb,Zr,Ti,V,Hf,Ta,Mo）為NaCl型面心立方結構，是一類傳統的超導體。它們的超導溫度分別為：NbN，17.3K；ZrN，9.0K；TiN，5.5K；VN，8.5K；HfN，8.83K；TaN和MoN，12K。此類超導體的硬度及穩定性都較高，有望成為一種性能優異的超導體材料。

鐵(鎳)氮化物具有高電阻率、高的抗氧化性、耐腐蝕性以及高鐵磁性，在吸波材料領域有著較好的應用前景。

多孔氮化硼由輕元素組成，具有較高的比表面積、較高的化學穩定性和熱穩定性，是一種理想的吸附材料。